為了幫助光學(xué)平臺用戶更好地識別產(chǎn)品質(zhì)量，以下POUSTO將簡要說明購買光學(xué)平臺時需要注意的事項，以及各項指標(biāo)的含義和檢測方法。

外觀

光學(xué)平臺的外觀應(yīng)當(dāng)美觀，所有部件不得存在影響安全的鋒利角和邊緣，更為重要的是，要檢查孔口的倒角是否均勻一致即螺孔旋入后應(yīng)與光學(xué)平臺的臺面垂直，且四周及倒角的平直度也應(yīng)保持一致，如果光學(xué)平臺是人工打磨而非經(jīng)過機(jī)械加工，孔口的倒角大小可能會有差異，目測上可發(fā)現(xiàn)光學(xué)平臺周圍的倒角部分有彎曲現(xiàn)象。

頻率

固有頻率不超過2赫茲，也稱為自然頻率或自振頻率，只有當(dāng)環(huán)境擾動力的頻率（f）與光學(xué)平臺的固有頻率（fo）之比滿足 f/fo > √2 時，系統(tǒng)才能有效隔振，因此，光學(xué)平臺的固有頻率越低，隔振效果越明顯。通常，這項指標(biāo)的檢測會使用振動頻譜分析儀和便攜式振動分析儀進(jìn)行多點測量，如果供應(yīng)商無法提供相關(guān)儀器，還可以通過以下方法進(jìn)行粗略測量：用手用力按下或側(cè)推光學(xué)平臺，然后迅速松手，讓光學(xué)平臺進(jìn)行較大幅度的上下振動或左右、前后擺動，每秒往復(fù)一次的振動頻率為1Hz，往復(fù)兩次則為2Hz，如此類推，這種方法能大致測量光學(xué)平臺的固有頻率。

平面度

要求不得超過每平方米0.05毫米，該指標(biāo)越小，代表臺面的平整度越好，從而更容易調(diào)整光路，通常，出廠時要求平面度小于0.05㎜/㎡。常見的檢測方法有光電自準(zhǔn)直儀法、光學(xué)平面度檢測儀、水平儀檢測法和激光平面度檢測儀等，在實驗室中，光學(xué)平臺的平面度通常使用光電自準(zhǔn)直儀和光學(xué)平直度檢測儀進(jìn)行檢測，并經(jīng)過計算得出結(jié)果，這些儀器是生產(chǎn)廠家必須配備的設(shè)備。

粗糙度

表面密度紋理和粗糙度（Ra≤0.8μm），該指標(biāo)旨在確保光學(xué)平臺具有平滑且無反射的工作表面，良好的表面粗糙度可以有效保護(hù)實驗設(shè)備，通常產(chǎn)品出廠時要求表面粗糙度達(dá)到Ra ≤ 0.8μm。粗糙度的檢測可以通過目測對比樣板或使用粗糙度儀來進(jìn)行，如果在現(xiàn)場進(jìn)行檢測，可以使用便于攜帶的粗糙度儀，該儀器能直接讀取數(shù)據(jù)且精度較高。

定位

重復(fù)定位精度為±0.10毫米，該指標(biāo)的目的是確保光學(xué)平臺在動態(tài)條件下保持水平，以便用戶進(jìn)行高速光路操作。檢測方法是將一個精度為0.02㎜的百分表固定在穩(wěn)定的物體上，表頭與光學(xué)平臺的臺面接觸后，需要反復(fù)對臺面進(jìn)行加載或卸載，待達(dá)到穩(wěn)定后，如果讀數(shù)在正負(fù)0.10㎜的范圍內(nèi)則視為合格。

振幅

光學(xué)平臺臺面的振幅應(yīng)不超過2微米（So≤2μm），在正常使用情況下，為了保證儀器的使用精度，光學(xué)平臺應(yīng)盡量保持較低的振幅。同時，可以通過比較光學(xué)平臺與地面的振幅指標(biāo)來評估系統(tǒng)的隔振性能，如果光學(xué)平臺的振幅低于地面的振幅，說明光學(xué)平臺有效地隔絕了振動；否則，說明隔振效果欠佳或存在振動放大現(xiàn)象，檢測振幅指標(biāo)的方法與檢測固有頻率的方法類似。

優(yōu)質(zhì)的光學(xué)平臺不僅需要高精度的機(jī)械設(shè)備進(jìn)行加工，還必須配備先進(jìn)的檢測技術(shù)和儀器，以確保其準(zhǔn)確性，只有擁有高品質(zhì)的光學(xué)平臺，才能確保科學(xué)實驗和研究的高精度進(jìn)行。

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